Tytuł artykułu

Temperature Effect on the Growth Rate and Physical Characteristics of SnO2 Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition

Tytuł czasopisma

Archives of Metallurgy and Materials

Rocznik

2018

Wolumin

vol. 63

Numer

No 2

Autorzy

Kim, Daeho ; Kim, Dong Ha ; Riu, Doh-Hyung ; Choi, Byung Joon

Słowa kluczowe

atomic layer deposition ; tin oxide ; growth rate ; film density ; optical band gap

Wydział PAN

Nauki Techniczne

Wydawca

Institute of Metallurgy and Materials Science of Polish Academy of Sciences ; Committee of Materials Engineering and Metallurgy of Polish Academy of Sciences

Data

2018.06.30

Typ

Artykuły / Articles

Identyfikator

DOI: 10.24425/122443 ; e-ISSN 2300-1909

Źródło

Archives of Metallurgy and Materials; 2018; vol. 63; No 2