Szczegóły

Tytuł artykułu

Comparative studies of the optical absorption coefficient spectra in the implanted layers in silicon with the use of nondestructive spectroscopic techniques

Tytuł czasopisma

Metrology and Measurement Systems

Rocznik

2020

Wolumin

vol. 27

Numer

No 2

Autorzy

Słowa kluczowe

silicon ; ion implantation ; optical absorption coefficient spectra ; modulated free carrier absorption ; photo thermal radiometry ; ellipsometry ; nondestructive techniques

Wydział PAN

Nauki Techniczne

Zakres

323-337

Wydawca

Polish Academy of Sciences Committee on Metrology and Scientific Instrumentation

Data

2020.06.18

Typ

Article

Identyfikator

DOI: 10.24425/mms.2020.132778 ; ISSN 2080-9050, e-ISSN 2300-1941

Źródło

Metrology and Measurement Systems; 2020; vol. 27; No 2; 323-337
×