Szczegóły Szczegóły PDF BIBTEX RIS Tytuł artykułu Comparative studies of the optical absorption coefficient spectra in the implanted layers in silicon with the use of nondestructive spectroscopic techniques Tytuł czasopisma Metrology and Measurement Systems Rocznik 2020 Wolumin vol. 27 Numer No 2 Autorzy Dorywalski, Krzysztof ; Chrobak, Łukasz ; Maliński, Mirosław Słowa kluczowe silicon ; ion implantation ; optical absorption coefficient spectra ; modulated free carrier absorption ; photo thermal radiometry ; ellipsometry ; nondestructive techniques Wydział PAN Nauki Techniczne Zakres 323-337 Wydawca Polish Academy of Sciences Committee on Metrology and Scientific Instrumentation Data 2020.06.18 Typ Article Identyfikator DOI: 10.24425/mms.2020.132778 ; ISSN 2080-9050, e-ISSN 2300-1941 Źródło Metrology and Measurement Systems; 2020; vol. 27; No 2; 323-337