Tytuł artykułu

Electrical Characteristics of Tin Oxide Films Grown by Thermal Atomic Layer Deposition

Tytuł czasopisma

Archives of Metallurgy and Materials

Rocznik

2020

Wolumin

vol. 65

Numer

No 3

Autorzy

Yoon, Seong Yu ; Choi, Byung Joon

Słowa kluczowe

Atomic layer deposition ; tin oxide ; electrical property ; oxygen adsorption

Wydział PAN

Nauki Techniczne

Zakres

1041-1044

Wydawca

Institute of Metallurgy and Materials Science of Polish Academy of Sciences ; Committee of Materials Engineering and Metallurgy of Polish Academy of Sciences

Data

2020.07.08

Typ

Article

Identyfikator

DOI: 10.24425/amm.2020.133214 ; e-ISSN 2300-1909

Źródło

Archives of Metallurgy and Materials; 2020; vol. 65; No 3; 1041-1044